时间：2015年3月26日，上午10:00 -11:00

报告题目：界面与点缺陷之间的相互作用

报告人：刘亮亮博士（武汉大学物理科学与技术学院）

地点：微纳材料与传感实验室学术报告厅（4-1303）

摘要：

通过第一性原理计算研究了表面、亚表面缺陷对锐钛矿型TiO₂表面O₂分子吸附、解离的影响。发现锐钛矿（001）表面的氢原子能够明显增强O₂分子的吸附，同时大大降低了O₂分子解离的能垒，而对于锐钛矿（101）面，亚表面氢原子对降低O₂分子解离能垒的起主要作用；锐钛矿（101）面的亚表面Ti间隙也有助于增强O₂分子的吸附和降低O₂分子解离的能垒，通过和表面吸附的两个O₂分子反应，产生了更多的活性氧原子。总之我们通过在表面或者亚表面引入缺陷增强了表面O₂分子的吸附，也大大降低了O₂分子解离的能垒，使表面产生了更多的活性氧原子，从而提高了TiO₂的氧化活性。

个人简介：

刘亮亮，武汉大学物理科学与技术学院博士

研究领域：通过多尺度计算模拟研究材料的物理、化学性质，目前主要用到的计算方法有第一性原理计算、第一性分子动力学和分子动力学。研究方向包括：缺陷对二氧化钛表面催化活性的影响；氧气在二氧化钛表面吸附、解离的机制；界面对材料电学性质、能带结构的影响；纳米材料晶界与点缺陷之间的相互作用。已经在J. Phys. Chem. C, ChemPhysChem, Materials Letters等学术期刊第一作者发表论文三篇。