刘亮亮博士:界面与点缺陷之间的相互作用
发布时间:2015-03-27 浏览次数:

 

时间:2015326日,上午10:00 -11:00

报告题目:界面与点缺陷之间的相互作用

报告人:刘亮亮博士(武汉大学物理科学与技术学院

地点:微纳材料与传感实验室学术报告厅(4-1303

摘要:

通过第一性原理计算研究了表面、亚表面缺陷对锐钛矿型TiO2表面O2分子吸附、解离的影响。发现锐钛矿(001)表面的氢原子能够明显增强O2分子的吸附,同时大大降低了O2分子解离的能垒,而对于锐钛矿(101)面,亚表面氢原子对降低O2分子解离能垒的起主要作用;锐钛矿(101)面的亚表面Ti间隙也有助于增强O2分子的吸附和降低O2分子解离的能垒,通过和表面吸附的两个O2分子反应,产生了更多的活性氧原子。总之我们通过在表面或者亚表面引入缺陷增强了表面O2分子的吸附,也大大降低了O2分子解离的能垒,使表面产生了更多的活性氧原子,从而提高了TiO2的氧化活性。

个人简介:

刘亮亮,武汉大学物理科学与技术学院博士

研究领域:通过多尺度计算模拟研究材料的物理、化学性质,目前主要用到的计算方法有第一性原理计算、第一性分子动力学和分子动力学。研究方向包括:缺陷对二氧化钛表面催化活性的影响;氧气在二氧化钛表面吸附、解离的机制;界面对材料电学性质、能带结构的影响;纳米材料晶界与点缺陷之间的相互作用。已经在J. Phys. Chem. C, ChemPhysChem, Materials Letters等学术期刊第一作者发表论文三篇。